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絕緣柵場效應(yīng)管

絕緣柵場效應(yīng)管的種類較多,有PMOS、NMOS和VMOS功率管等,但應(yīng)用最多的是MOS管。MOS絕緣柵場效應(yīng)管也即金屬一氧化物一半導(dǎo)體場效應(yīng)管,通常用MOS表示,簡稱作MOS管。它具有比結(jié)型場效應(yīng)管更高的輸入阻抗(可達1012Ω以上),并且制造工藝比較簡單,使用靈活方便,非常有利于高度集成化。
絕緣柵場效應(yīng)管
結(jié)構(gòu)和符號
圖1是N溝道增強型mos管的結(jié)構(gòu)示意圖和符號。它是在一塊P型硅襯底上,擴散兩個高濃度摻雜的N+區(qū),在兩個N+區(qū)之間的硅表面上制作一層很薄的二氧化硅(SiO2)絕緣層,然后在SiO2和兩個N型區(qū)表面上分別引出三個電極,稱為源極s、柵極g和漏極d。在其圖形符號中,箭頭表示漏極電流的實際方向。
工作原理
絕緣柵場效應(yīng)管的導(dǎo)電機理是,利用UGS 控制"感應(yīng)電荷"的多少來改變導(dǎo)電溝道的寬窄,從而控制漏極電流ID。若UGS=0時,源、漏之間不存在導(dǎo)電溝道的為增強型MOS管,UGS=0 時,漏、源之間存在導(dǎo)電溝道的為耗盡型MOS管。

圖2中襯底為P型半導(dǎo)體,在它的上面是一層SiO2薄膜、在SiO2薄膜上蓋一層金屬,如果在金屬鋁層和半導(dǎo)體之間加電壓UGS,則金屬鋁與半導(dǎo)體之間產(chǎn)生一個垂直于半導(dǎo)體表面的電場,在這一電場作用下,P型硅表面的多數(shù)載流子-空穴受到排斥,使硅片表面產(chǎn)生一層缺乏載流子的薄層。同時在電場作用下,P型半導(dǎo)體中的少數(shù)載流子-電子被吸引到半導(dǎo)體的表面,并被空穴所俘獲而形成負(fù)離子,組成不可移動的空間電荷層(稱耗盡層又叫受主離子層)。UGS愈大,電場排斥硅表面層中的空穴愈多,則耗盡層愈寬,且UGS愈大,電場愈強;當(dāng)UGS 增大到某一柵源電壓值VT(叫臨界電壓或開啟電壓)時,則電場在排斥半導(dǎo)體表面層的多數(shù)載流子-空穴形成耗盡層之后,就會吸引少數(shù)載流子-電子,繼而在表面層內(nèi)形成電子的積累,從而使原來為空穴占多數(shù)的P型半導(dǎo)體表面形成了N型薄層。由于與P型襯底的導(dǎo)電類型相反,故稱為反型層。在反型層下才是負(fù)離子組成的耗盡層。這一N型電子層,把原來被PN結(jié)高阻層隔開的源區(qū)和漏區(qū)連接起來,形成導(dǎo)電溝道。

用圖2所示電路來分析柵源電壓UGS控制導(dǎo)電溝道寬窄,改變漏極電流ID 的關(guān)系:當(dāng)UGS=0時,因沒有電場作用,不能形成導(dǎo)電溝道,這時雖然漏源間外接有ED電源,但由于漏源間被P型襯底所隔開,漏源之間存在兩個PN結(jié),因此只能流過很小的反向電流,ID ≈0;當(dāng)UGS>0并逐漸增加到VT 時,反型層開始形成,漏源之間被N溝道連成一體。這時在正的漏源電壓UDS作用下;N溝道內(nèi)的多子(電子)產(chǎn)生漂移運動,從源極流向漏極,形成漏極電流ID。顯然,UGS愈高,電場愈強,表面感應(yīng)出的電子愈多,N型溝道愈寬溝道電阻愈小,ID愈大。

主要參數(shù)
Idss-飽和漏源電流:是指結(jié)型或耗盡型絕緣柵場效應(yīng)管中,柵極電壓UGS=0時的漏源電流。

Up-夾斷電壓:是指結(jié)型或耗盡型絕緣柵場效應(yīng)管中,使漏源間剛截止時的柵極電壓。

Ut-開啟電壓:是指增強型絕緣柵場效管中,使漏源間剛導(dǎo)通時的柵極電壓。

gM-跨導(dǎo):是表示柵源電壓UGS-對漏極電流ID的控制能力,即漏極電流ID變化量與柵源電壓UGS變化量的比值。gM是衡量場效應(yīng)管放大能力的重要參數(shù)。

BVDS-漏源擊穿電壓:是指柵源電壓UGS一定時,場效應(yīng)管正常工作所能承受的最大漏源電壓。這是一項極限參數(shù),加在場效應(yīng)管上的工作電壓必須小于BVDS.

PDSM-最大耗散功率:是一項極限參數(shù),是指場效應(yīng)管性能不變壞時所允許的最大漏源耗散功率。使用時,場效應(yīng)管實際功耗應(yīng)小于PDSM并留有一定余量。

IDSM-最大漏源電流:是一項極限參數(shù),是指場效應(yīng)管正常工作時,漏源間所允許通過的最大電流。場效應(yīng)管的工作電流不應(yīng)超過IDSM。

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    執(zhí)照認(rèn)證:
    未認(rèn)證
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